以下是針對(duì) 266nm、355nm、532nm皮秒激光器 的全面對(duì)比分析及選型建議,基于不同波長(zhǎng)激光器的技術(shù)參數(shù)、應(yīng)用場(chǎng)景和性能特點(diǎn)進(jìn)行整理:
波長(zhǎng) | 材料吸收特性 | 典型應(yīng)用場(chǎng)景 |
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266nm(DUV) | 高吸收率(玻璃、聚合物、半導(dǎo)體) | 半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)、透明材料微加工、精密雕刻 |
355nm(UV) | 中等吸收率(金屬、陶瓷、塑料) | 高精度微鉆孔、薄膜加工、3D打印 |
532nm(Green) | 較低吸收率(金屬、陶瓷、部分塑料) | 金屬標(biāo)記、陶瓷切割、高效工業(yè)加工 |
關(guān)鍵差異:
266nm 適用于高精度、低熱影響加工(如半導(dǎo)體、光學(xué)玻璃)。
355nm 平衡了精度與功率,適合微細(xì)結(jié)構(gòu)加工(如PCB鉆孔)。
532nm 適用于高功率、高效率加工(如金屬切割、打標(biāo))。
型號(hào) | 波長(zhǎng) | 功率 | 脈沖寬度 | 重復(fù)頻率 | 峰值功率 | 冷卻方式 | 典型應(yīng)用 |
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LFX-15108 | 266nm | 15W | <15ps | 800kHz–1MHz | >2MW | 水冷+風(fēng)冷 | 半導(dǎo)體、透明材料加工1 |
LFV-28104 | 355nm | 28W | <15ps | 200kHz–1MHz | >1.4MW | 水冷+風(fēng)冷 | 高精度UV微加工1 |
LDH-G2510 | 532nm | 25W | <15ps | 200kHz–1MHz | >1.7MW | 水冷+風(fēng)冷 | 金屬/陶瓷高效加工1 |
HyperRapid NXT 355-50 | 355nm | 50W | <10ps | 單發(fā)–5MHz | >75μJ | 水冷 | 高功率UV微加工9 |
PICOPOWER-RG1-1064-10K(可選532nm) | 532nm | 290mW@10kHz | <25ps | 單發(fā)–10kHz | >1.4MW | 風(fēng)冷 | 科研級(jí)微加工1 |
關(guān)鍵差異:
266nm 型號(hào)(如LFX-15108)適合超精密加工,但功率較低(15W)。
355nm 型號(hào)(如LFV-28104、HyperRapid NXT 355-50)適合高功率微加工(28W–50W)。
532nm 型號(hào)(如LDH-G2510)適合工業(yè)級(jí)高效加工(25W)。
推薦型號(hào):LFX-15108(266nm, 15W)
優(yōu)勢(shì):極短波長(zhǎng),適用于透明材料、半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)。
缺點(diǎn):功率較低,加工速度較慢。
推薦型號(hào):LFV-28104(355nm, 28W)或 HyperRapid NXT 355-50(50W)
優(yōu)勢(shì):平衡了精度與功率,適合高精度鉆孔、3D微結(jié)構(gòu)加工。
缺點(diǎn):UV波長(zhǎng)對(duì)光學(xué)元件損耗較大。
推薦型號(hào):LDH-G2510(532nm, 25W)
優(yōu)勢(shì):高功率、高穩(wěn)定性,適合大批量金屬切割/打標(biāo)。
缺點(diǎn):對(duì)部分高反射材料(如銅)加工效率較低。
266nm:超精密加工,但功率受限。
355nm:高精度+較高功率,適合微細(xì)結(jié)構(gòu)。
532nm:工業(yè)級(jí)高效加工,性價(jià)比高。